طراحی و شبیه سازی ترانزیستور های اثر میدان

Publish Year: 1401
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 174

This Paper With 10 Page And PDF and WORD Format Ready To Download

  • Certificate
  • من نویسنده این مقاله هستم

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این Paper:

شناسه ملی سند علمی:

SETIET02_016

تاریخ نمایه سازی: 6 شهریور 1401

Abstract:

با رشد سریع فناوری ساخت مدار های الکترونیکی و ورود به مرز فناوری نانو، چالش های فراوانی را نیز متخصین الکترونیک قرار داده است . برخی از این چالش ها مربوط به فرایند و فناوری ساخت مدار های الکترونیکی و بخشی نیز مربوط به کوچک تر شدن ابعاد ترانزیستور ها است. ویژگی های چشمگیر مداراها و ترانزیستور های اثر میدانی نانو لوله کربنی نشانگر این است که نقش مهمی در سیستم های الکترونیکی ایفا کنند .در سال های اخیر کاربرد ترانزیستورهای سیلیکونی درمدار مجتمع افزایش یافته است چرا که این ترانزیستورها نه تنها به عنوان عنصر فعال بلکه به عنوان خازن و مقاومت نیز استفاده میشود هر چند مدارهای ساخته شده با ماسفت نسبت به مدارهای ساخته شده با بی جی تی ها پیچیده تر و سرعت کمتری دارند ،اماهزینه ساخت کمتر و نیز فضای کمتری اشغال میکنند. در این مقاله به چند نوع ترانزیستور های اثر میدان میپردازیم

Keywords:

ترانزیستور اثر میدان , ترانزیستور اثر میدانی نانو لوله کربنی , مشخصه ترانزیستور , اثر خود گرمایی

Authors

امیرحسین تدریسی

دانشجوی کاردانی برق الکترونیک دانشگاه فنی شهید چمران رشت

مصطفی خشنود

دکترای برق الکترونیک.مدرس دانشگاه شهید چمران رشت