بررسی اثر توان پلاسما و زمان بر خواص اپتیکی واندازه نانو ذرات اکسید روی بر روی زیر لایه ی فلوئورین تین اکساید

در این تحقیق لایه نازک اکسید روی با روش کند وپاش روی زیر لایه FTO لایه نشانی شد. خواص الکتریکی و اپتیکی نمونه ها با تغییر توان و مدت زمان لایه نشانی مورد بررسی قرار گرفت . از روی آنالیز XRD مشاهده شد نمونه ای که مدت زمان لایه نشانی آن بیشتر بود، پیک های با قدرت بیشتری را دارد و رشد اکسید روی در آن در روی دسته صفحه ی ( 101 ) بارزتر است. نتایج آنالیز SEM نمونه ها نشان داد که در نمونه ی لایه نشانی شده با توان بیشتر ، ذراتی با ابعاد بزرگتر وبا قدرت تفکیک بیشتری تشکیل شده است. با استفاده از طیف سنج UV -VI -IR این نتیجه به دست آمد که نمونه ی لایه نشانی شده با توان لایه نشانی بیشتر میزان انعکاس و عبور بیشتر و جذب کمتری را در محدوده طو ل موج 200 تا 700 نانومتر از خود نشان می دهد. نتایج این بررسی را می توان برای تولید نانو ذرات اکسید روی با اندازه مشخص و خواص اپتیکی معین،بکار برد.