بهینه سازی ضخامت میکروالکترودهای عصبی MEMS بر اساس انعطاف پذیری
Publish place: The second internal conference on electricity
Publish Year: 1393
Type: Conference paper
Language: Persian
View: 650
متن کامل این Paper منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل Paper (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دانلود نمایند.
- Certificate
- I'm the author of the paper
Export:
Document National Code:
COMP02_044
Index date: 5 August 2015
بهینه سازی ضخامت میکروالکترودهای عصبی MEMS بر اساس انعطاف پذیری abstract
سیستم عصبی انسان به عنوان سیستمی جذاب و پیچیده همواره مورد مطالعه و توجه قرار گرفته است. .برای تحریک و ضبط فعالیت های عصبی از میکروالکترودهای MEMS قابل کاشت استفاده می گردد. طراحی و ساخت این افزاره ها یکی از چالشهای پیشروی میکروالکترومکانیک می باشد. خصوصیتی که در این بررسی به آن پرداخته شده است، مشخصات مکانیکی این افزاره از جمله جابجایی کلی، تغییر شکل سطح و کرنش حجمی در ضخامت های مختلف با زیرلایه سیلیکون و PET مقایسه شده است. همچنین میزان پس زدگی الکترود توسط بافت مغز در ضخامت های مختلف بررسی شده است. با استفاده از نتایج گرفته شده ماده مناسب سیلیکون با ضخامت ?m 60 می باشد.
بهینه سازی ضخامت میکروالکترودهای عصبی MEMS بر اساس انعطاف پذیری Keywords:
بهینه سازی ضخامت میکروالکترودهای عصبی MEMS بر اساس انعطاف پذیری authors
فرزانه پاشائی امیدوار
دانشگاه آزاد اسلامی واحد تهران جنوب
جواد کرمدل
دانشگاه آزاد اسلامی واحد تهران جنوب
مرتضی فتحی پور
دانشگاه تهران
مراجع و منابع این Paper:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :