اثر آنتی اکسیدان سیلیسیوم بر رفتار اکسیداسیون دیرگدازه های منیزیا - گرافیت

از جمله واکنش های مهم صنعتی، واکنش گازهای موجود در اتمسفر با جداره تجهیزات می باشد. این موضوع باعث کاهش کارایی تجهیزات شده و ممکن است خسارات زیادی را به همراه آورد. امروزه تلاش شده است با بررسی الگوهای سینتیبکی، مکانیزم این واکنش ها بررسی شود. در این پژوهش مکانیزم اکسیداسیون نسوزهای منزیا - گرافیتی شامل درصدهای 0 ، 1، 3، 5% وزنی آنتی اکسیدان سیلیسیم در دماهای 600، 700، 800، 900، 1000، 1100 درجه سانتیگراد در اتمسفر هوا بررسی شد. با توجه به شکل ظاهری نمونه ها الگوهای سینتیکی مناسب انتخاب گردید. با استفاده از منحنی های به دست آمده از آزمایش اکسیداسیون و روش های نرم افزاری، زمان آسایش نمونه ها بررسی شد. نتایج نشان داد با افزایش دما مدل از حالت تبدیل پیشرونده به هسته کوچک شونده تبدیل می شود. همچنین در دماهای پایین، گام کنترل کننده در فرایند اکسیداسیون جذب شیمیایی اکسیژن رو ی صفحات گرافیت و نفوذ در جامد می باشد که با افزایش دما به 1000 و 1100 درجه و افزایش سیلیکون به 5% گتم جذب شیمیایی حذف می گردد.

Keywords:

دیرگداز منیزیا - گرافیت , آنتی اکسیدان , سیلیسیوم , سینتیک