بررسی اثر بمباران نیتروژن بر خواص اپتیکی اکسید مس لایه نشانی شده به روش اسپاترینگ

برای بررسی اثر بمباران نیتروژن بر خواص اپتیکی اکسید مس لایه نشانی شده به روش اسپاترینگ، در 3 مرحله کار تحقیق صورت گرفت. اولین مرحله؛ لایه نشانی مس بر زیرلایه شیشه توسط کندوپاش مغناطیسی استوانهای است که از هدف مس با خلوص 99/99% و مخلوط گاز آرگون انجام گرفت، دومین مرحله بازپخت تحت شار اکسیژن توسط دستگاه پوششدهی شیمیایی در فاز بخار (CVD ) است و سومین مرحله بمباران نیتروژن توسط دستگاه کاشت یون نیتروژن با دوز (فرمول در متن اصلی مقاله) و با جریان 40 میکرو آمپر بر سانتیمترمربع انرژی 30 کیلو الکترون ولت است.هرکدام از این مراحل ساختار کریستالی با استفاده از دستگاه طیف پراش XRD و به جهت شناسایی و آنالیز از SEM و مورفولوژی سطح توسط AFM مورد بررسی و مطالعه قرار گرفت و درصد انعکاس از سطح نمونه توسط اسپکتروفوتومتری بررسی شده است. بعد از کاشت نیتروژن تشکیل فازهایCU(NO3)2 و (No3) Cu8 با ساختار orthorhombic توسط XRD تایید شده است ، AFM نیز افزایش roughness یا زمختی را نشان می دهد و طیف عبور و بازتاب بررسی شده است و انرژی گاف 7 / 1 الکترون ولت می باشد

Keywords:

بمباران نیتروژن , خواص اپتیکی , اکسید مس