تحلیل فرایند Lithography توسط شبیه سازی المان محدود و اصلاح مدل قطعه به روش تحلیل حساسیت

Publish Year: 1387
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 1,060

This Paper With 10 Page And PDF Format Ready To Download

  • Certificate
  • من نویسنده این مقاله هستم

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این Paper:

شناسه ملی سند علمی:

ICME09_152

تاریخ نمایه سازی: 5 آبان 1388

Abstract:

یکی از روشهای نمونه سازی روش stereo lithography می باشد که در آن قسمت مشخصی از سطح رزین مایع توسط نور لیزر و یا منبع دیگر از انرژی به جامد تبدیل می شود در این حالت عمل تبدیل شدن رزین به جامد همراه با کاهش حجم آن یا همان شیرینکیج می باشد. شیرینکیج و تغییر شکل های پیچشی (تاب برداشتن) از اصلی ترین فاکتورهایی است که باعث عدم دقت در قطعه می شود، بخصوص در مورد قطعات توخالی. به طور معمول طراحان سعی می کنند با قرار دادن ساپورتر ها در کنار مدل از تغییر شکل بیشتر آن جلوگیری کنند اما در پایان با جدا کردن ساپورتر، مدل به راحتی تغییر شکل می دهد و در حقیقت زمان و هزینه ای را که برای ساخت ساپورتر مصرف کرده است را از دست داده. در اینجا ما با تحلیل های المان محدود تغییر شکل سطوح خارجی مدل را در طول فرایند ساخت محاسبه می کنیم و در نهایت با انجام تحلیل حساسیت مدل اصلاح شده ای را ارایه می دهیم که می تواند بعد از ساخت دقت مورد نیاز طراح را فراهم کند.

Authors

حمید شاه محمدی

دانشجوی کارشناسی ارشد ساخت و تولید دانشگاه امیرکبیر

محسن حبیبی

دانشجوی کارشناسی ارشد ساخت و تولید دانشگاه امیرکبیر

بهروز آرزو

استادیار دانشگاه امیرکبیر

مراجع و منابع این Paper:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :
  • _ Rapid Prototyping and Manufacturing _ lithography, ASM Press, New ...
  • H. Narahara, et al. Reaction heat effects on initial linear ...
  • نمایش کامل مراجع