ناشر تخصصی کنفرانس های ایران

لطفا کمی صبر نمایید

Publisher of Iranian Journals and Conference Proceedings

Please waite ..
CIVILICAWe Respect the Science
Publisher of Iranian Journals and Conference Proceedings
Paper
Title

تاثیر PH برروی لایه نشانی الکتروشیمیایی لایه های نازک نیکل روی Si+n111

Year: 1389
COI: ICME11_242
Language: PersianView: 545
This Paper With 8 Page And PDF Format Ready To Download

Buy and Download

با استفاده از پرداخت اینترنتی بسیار سریع و ساده می توانید اصل این Paper را که دارای 8 صفحه است به صورت فایل PDF در اختیار داشته باشید.
آدرس ایمیل خود را در کادر زیر وارد نمایید:

Authors

سیدمهدی جان جان - دانشجوی کارشناسی ارشد دانشکده مهندسیمواد
فرزاد نصیرپور - استادیار دانشکده مهندسیمواد

Abstract:

دراین تحقیق ما تاثیر PH را برروی جوانه زنی و رشد نیکل ز حمامهای وات با PH مختلف برروی Si+n111 مورد مطالعه قرار داده ایم نتایج ولتامتری سیکلی و جریان گذرا ثبت شده در طی لایه نشانی الکتروشیمیایی نیکل روی Si+n111 برای ارزیابی نشست الکتروشیمیایی نیکل استفاده شده است نتایج نشان دادند که نیکل از پتانسیل اسمی V 0.7- شروع به رشد برروی Si+n111 می کند با افزایش سرعت جاروب منحنی های ولتامتری سیکلی باعث انتقال پیکهای احیای نیکل به سمت مقادیر منفی تر می شوند. نتایج نشان دادند که با کاهش PH جوانه زنی با سرعت بیشتری صورت گرفته در نتیجه جوانه های ریز کمتر از 100 nm بدست آمده و لایه های نازک نیکل برروی زیرلایه تشکیل می شود.

Keywords:

نیکل، لایه نشانی الکتروشیمیای، جوانه زنی و رشد، تئوری شریفکیر، هیلز ، Si+n111

Paper COI Code

برای لینک دهی به این Paper می توانید از لینک زیر استفاده نمایید. این لینک همیشه ثابت است و به عنوان سند ثبت Paper در مرجع سیویلیکا مورد استفاده قرار میگیرد:

https://civilica.com/doc/97955/

How To Citation:

در صورتی که می خواهید در اثر پژوهشی خود به این Paper ارجاع دهید، به سادگی می توانید از عبارت زیر در بخش منابع و مراجع استفاده نمایید:
جان جان، سیدمهدی و نصیرپور، فرزاد،1389،تاثیر PH برروی لایه نشانی الکتروشیمیایی لایه های نازک نیکل روی Si+n111،یازدهمین کنفرانس ملی مهندسی ساخت و تولید ایران،تبریز،،،https://civilica.com/doc/97955

در داخل متن نیز هر جا که به عبارت و یا دستاوردی از این Paper اشاره شود پس از ذکر مطلب، در داخل پارانتز، مشخصات زیر نوشته می شود.
برای بار اول: (1389، جان جان، سیدمهدی؛ فرزاد نصیرپور)
برای بار دوم به بعد: (1389، جان جان؛ نصیرپور)
برای آشنایی کامل با نحوه مرجع نویسی لطفا بخش راهنمای سیویلیکا (مرجع دهی) را ملاحظه نمایید.

مراجع و منابع این Paper:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مPaperقاله لینک شده اند :

  • Materials", 165 (1997) 63-69. ...
  • N.Lebbad, J.Voiron, B.Nguyen, E.Chainet, "Thin Solid Films", 275 (73) (1998) ...
  • _ _ _ _ _ _ _ _ (1999) 827-833. ...
  • W. Sc hwarzacher, "Kinetic roughening of e _ ectrodeposited films", ...
  • B. Scharifker, G. Hills, "Theoretical and experimental studies of multiple ...
  • Research Info Management

    Certificate | Report | من نویسنده این مقاله هستم

    اطلاعات استنادی این Paper را به نرم افزارهای مدیریت اطلاعات علمی و استنادی ارسال نمایید و در تحقیقات خود از آن استفاده نمایید.

    New Papers

    Share this page

    More information about COI

    COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.

    کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.

    Support