تاثیر PH برروی لایه نشانی الکتروشیمیایی لایه های نازک نیکل روی Si+n111
Publish Year: 1389
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 736
This Paper With 8 Page And PDF Format Ready To Download
- Certificate
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
ICME11_242
تاریخ نمایه سازی: 3 مرداد 1389
Abstract:
دراین تحقیق ما تاثیر PH را برروی جوانه زنی و رشد نیکل ز حمامهای وات با PH مختلف برروی Si+n111 مورد مطالعه قرار داده ایم نتایج ولتامتری سیکلی و جریان گذرا ثبت شده در طی لایه نشانی الکتروشیمیایی نیکل روی Si+n111 برای ارزیابی نشست الکتروشیمیایی نیکل استفاده شده است نتایج نشان دادند که نیکل از پتانسیل اسمی V 0.7- شروع به رشد برروی Si+n111 می کند با افزایش سرعت جاروب منحنی های ولتامتری سیکلی باعث انتقال پیکهای احیای نیکل به سمت مقادیر منفی تر می شوند. نتایج نشان دادند که با کاهش PH جوانه زنی با سرعت بیشتری صورت گرفته در نتیجه جوانه های ریز کمتر از 100 nm بدست آمده و لایه های نازک نیکل برروی زیرلایه تشکیل می شود.
Keywords:
Authors
سیدمهدی جان جان
دانشجوی کارشناسی ارشد دانشکده مهندسیمواد
فرزاد نصیرپور
استادیار دانشکده مهندسیمواد
مراجع و منابع این Paper:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :