بررسی و ارزیابی پایداری حرارتی و زبری سطح لایه نازک اکسید روی
Publish place: The 20th National Conference on Surface Engineering and the First Conference on Damage Analysis and Life Estimation
Publish Year: 1398
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 479
This Paper With 8 Page And PDF Format Ready To Download
- Certificate
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
ISSE20_061
تاریخ نمایه سازی: 22 اردیبهشت 1399
Abstract:
اکسید روی (ZnO) یک نیمه رسانای نوع n با گاف انرژی پهن می باشد، به همین علت به عنوان یک ماده مفید برای گسترش قطعات الکترونیکی و اپتوالکترونیکی مانند رساناهای شفاف، حسگرهای گازی واریستورها، همچنین در ساخت سلول ای خورشیدی نیز به کار می رود. روش های متعددی برای تهیه فیلم های نازک اکسید روی با توجه به محدوده وسیع کاربردشان وجود دارد. در این کار تجربی فیلم های نازک اکسید روی، با استفاده از روش سل ژل و به کارگیری تکنیک غوطه وری بر روی زیرلایه های مسی تهیه شده اند. از زینک استات دی هیدرات به عنوان ماده اولیه و از محلول های 2- متوکسی اتانول و دی اتانول آمین به ترتیب به عنوان حلال و پایدارساز استفاده شده است. غلظت فیلم های تهیه شده 0/9 مول بر لیتر می باشد و این فیلم ها در دمای 300 درجه سانتی گراد باز پخت شده اند. همچنین در این تحقیق، مورفولوژی، زبری سطح و پایداری حرارتی پوشش مورد بررسی قرار می گیرد.
Keywords:
Authors
میلاد عبداله زاده سفار
دانشجوی کارشناسی ارشد، دانشکده مهندسی مواد، دانشگاه صنعتی مالک اشتر، اصفهان، ایران
اکبر اسحاقی
دانشیار، دانشکده مهندسی مواد، دانشگاه صنعتی مالک اشتر، اصفهان، ایران
محمدرضا دهنوی
استادیار، دانشکده مهندسی مواد، دانشگاه صنعتی مالک اشتر، اصفهان، ایران