رشد و مشخصهیابی نانوساختارهای اکسید مس برای کاربردهای فوتوولتاییک

در این مقاله، نانوساختارهای اکسید مس بهمنظور استفاده در کاربردهای فوتوولتاییک بر روی زیرلایهای از جنس مس، مورد بررسی قرار گرفتهاند. برای رشد این نانوساختارها از روش لایهنشانی ساده و کمهزینه حمام شیمیایی در دمای اتاق و به کمک آمونیاک (NH3 (و هیدروکسید سدیم (NaOH (استفاده شدهاست. بهمنظور بررسی مورفولوژی نانوساختارهای اکسید مس، لایهنشانی در pHهای مختلف و در مدت زمان لایهنشانی متفاوت انجام شدهاست. نتایج حاصل از آزمایش نشان میدهند که نانوساختارهای رشد یافته، در pHهای بالاتراز 11 دارای ساختار نانوسیم با کیفیت مطلوب و در pHهای کمتر از 11 دارای ساختارهای نانوگل میباشد. همچنین با افزایش مدت زمان لایهنشانی، تراکم و طول نانوساختارها افزایش مییابد.

Keywords:

سلول خورشیدی لایه نازک , نانو ساختار اکسید مس , لایهنشانی حمام شیمیایی , pH محلول , زمان لایهنشانی