بررسی جهت گیری ترجیحی لایه های نازک اکسید روی (ZnO) براساس ضریب بافت آنها
Publish place: 10th Iranian Seminar on Surface Engineering
Publish Year: 1388
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 1,525
This Paper With 6 Page And PDF Format Ready To Download
- Certificate
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
ISSE10_034
تاریخ نمایه سازی: 1 فروردین 1388
Abstract:
در این تحقیق ، لایه های نازک اکسید روی (ZnO) به روش سل - ژل بر زیرلایه های شیشه ای لایه نشانی شدند. لایه های تهیه شده با استفاده از تکنیک پوشش دهی چرخشی، سل حاصل از منواتانول آمین (MEA) ، دی هیدرات استات روی، آب دی اکسیژنه و الکل ایزوپروپانول به دست آمدند. لایه ها پس از هر بار پوشش دهی در دمای پیش پخت 250 درجه سانتی گراد و به مدت 30 دقیقه حرارت داده شدند. سپس لایه ها، بعد از 6 بار پوشش دهی، در دماهای مختلف 300، 450 و 550 درجه سانتیگراد در هوا به مدت یک ساعت باز پخت شدند. ضخامت لایه ها با استفاده از دستگاه نمایه سنج 350mm تخمین زده شد. تأثیر دمای بازپخت بر ساختار لایه هاه از طریق آزمون پراش سنج پرتو ایکس و محاسبه ضریب بافت Tc لایه ها مورد بررسی قرار گرفت. نتایج آزمون پراش پرتو ایکس ساختاری کریستالی با جهت گیری ترجیحی صفحه (002) را نشان می دهند. نتایج حاصل از محاسبۀ Tcلایه ها نیز افزایش Tc لایه ها را در راستای (002) با افزایش دمای بازپخت نشان می دهند که تائیدی بر بهبود جهت گیری ترجیحی صفحه (002)در لایه های مورد تحقیق می باشد.
Authors
داود رئوفی
گروه فیزیک دانشگاه ابوعلی سینا همدان
طه رئوفی
گروه فیزیک، دانشگاه آزاد اسلامی واحد کرج
مراجع و منابع این Paper:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :