بررسی خواص مقاومت ویژه سطحی لایه نازک سیلیکان
Publish place: 10th Iranian Seminar on Surface Engineering
Publish Year: 1388
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: Persian
View: 1,730
This Paper With 8 Page And PDF Format Ready To Download
- Certificate
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
ISSE10_043
تاریخ نمایه سازی: 1 فروردین 1388
Abstract:
لایه نشانی ویفر سیلیکون به روش لایه نشانی با زاویه فرودی مایل تحت زوایای 75و 85 درجه انجام شد اندازه گیری مقاومت سطحی لایه، به روش ون در پاو انجام و نتایج آن با مقاومت زیرلایه که به همین روش اندازه گیری شده است، مقایسه شد نتایج به دست آمده نشان می دهد، مساحت سطحی و در نتیجه مقاومت سطحی نمونه ی °75 به مراتب بزرگتر از °85 و همچنین مساحت سطحی °85 به مراتب بزرگتر از ویفر می باشد.
Keywords:
Authors
نرگس صادق بیگی
گروه فیزیک ، دانشگاه الزهرا (س)
رضا ثابت داریانی
گروه فیزیک ، دانشگاه الزهرا (س)
مراجع و منابع این Paper:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :