سیویلیکا را در شبکه های اجتماعی دنبال نمایید.

افزایش ولتاژ شکست به کمک صفحه میدان در ترانزیستورهای قدرت با قابلیت حرکت بالای الکترون (HEMTs) مبتنی بر AlGaN/GaN

Publish Year: 1388
Type: Conference paper
Language: Persian
View: 2,932

متن کامل این Paper منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل Paper (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دانلود نمایند.

Export:

Link to this Paper:

Document National Code:

IPC88_120

Index date: 18 January 2010

افزایش ولتاژ شکست به کمک صفحه میدان در ترانزیستورهای قدرت با قابلیت حرکت بالای الکترون (HEMTs) مبتنی بر AlGaN/GaN abstract

در این مقاله تاثیر بکارگیری تکنیک صفحه میدان درونی بر افزایش ولتاژ شکست و جریان درین _ سورس در ترانزیستورهای قدرت با قابلیت حرکت بالای الکترون مبتنی بر AlGaN/GaN را مورد بررسی قرار داده ایم. در ساختار صفحه میدان درونی، صفحه میدان درونی به گیت متصل می باشدوتک صفحه میدان به سورس متصل می باشد.شیوه طراحی قانونمندی برای افزاره با صفحه میدان درونی ارائه شده است که در آن از شبیه سازی دو بعدی جهت بیشینه نمودن همزمان درین – سورس و ولتاژشکست به کار گرفته می شود. با استفاده از تحلیل عددی نشان داده ایم که صرفا با بهینه سازی ضخامت لایه غیر فعال کننده Si3N4 در زیر تک صحفه میدان ، طول صفحه میدان درونی در فاصله بین گیت- درین و طول تک صفحه میدان در فاصله بین سورس- درین، در ساختار صفحه میدان درونی بیشترین بهبود در بیشینه ولتاژ شکست و بیشینه جریان درین _ سورس به دست می آید.

افزایش ولتاژ شکست به کمک صفحه میدان در ترانزیستورهای قدرت با قابلیت حرکت بالای الکترون (HEMTs) مبتنی بر AlGaN/GaN authors

مرتضی فتحی پور

دانشکده برق و کامپیوتر دانشگاه تهران ،آزمایشگاه مدل سازی و شبیه سازی

رضا آزادواری

دانشکده برق و کامپیوتر دانشگاه تهران ،آزمایشگاه مدل سازی و شبیه سازی

مراجع و منابع این Paper:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این Paper را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود Paper لینک شده اند :
power GaN oscillatos using field plate HEMT S tru ture, ...
J.Li, S _ J. cai , G _ Z .p ...
R. vetury, N.Q.Zhung , S. Keller , and V.K.Mishra, "The ...
Robe rtcoffie , "characterizing _ suppressing DC-to-RF Ds persion in ...
S .karmalkar, U. K _ Mishra, 'Enhancemet of breakdown voltage ...
:Inner Field-Plate length(Lr) ...
: Thickness of the passivation layer Si3N4(t) ...
: Two Dimensional Electron Gas(2DEG) 1: mfathi@ut.ace.ir ...
نمایش کامل مراجع

مقاله فارسی "افزایش ولتاژ شکست به کمک صفحه میدان در ترانزیستورهای قدرت با قابلیت حرکت بالای الکترون (HEMTs) مبتنی بر AlGaN/GaN" توسط مرتضی فتحی پور، دانشکده برق و کامپیوتر دانشگاه تهران ،آزمایشگاه مدل سازی و شبیه سازی ؛ رضا آزادواری، دانشکده برق و کامپیوتر دانشگاه تهران ،آزمایشگاه مدل سازی و شبیه سازی نوشته شده و در سال 1388 پس از تایید کمیته علمی کنفرانس فیزیک ایران 1388 پذیرفته شده است. کلمات کلیدی استفاده شده در این مقاله هستند. این مقاله در تاریخ 28 دی 1388 توسط سیویلیکا نمایه سازی و منتشر شده است و تاکنون 2932 بار صفحه این مقاله مشاهده شده است. در چکیده این مقاله اشاره شده است که در این مقاله تاثیر بکارگیری تکنیک صفحه میدان درونی بر افزایش ولتاژ شکست و جریان درین _ سورس در ترانزیستورهای قدرت با قابلیت حرکت بالای الکترون مبتنی بر AlGaN/GaN را مورد بررسی قرار داده ایم. در ساختار صفحه میدان درونی، صفحه میدان درونی به گیت متصل می باشدوتک صفحه میدان به سورس متصل می باشد.شیوه طراحی قانونمندی برای افزاره با ... . برای دانلود فایل کامل مقاله افزایش ولتاژ شکست به کمک صفحه میدان در ترانزیستورهای قدرت با قابلیت حرکت بالای الکترون (HEMTs) مبتنی بر AlGaN/GaN با 4 صفحه به فرمت PDF، میتوانید از طریق بخش "دانلود فایل کامل" اقدام نمایید.